Prévenir les incidents graves dans les opérations de semi-conducteurs :

Les entreprises du secteur des semi-conducteurs appliquent des programmes de sécurité très performants tout en gérant des risques complexes et graves inhérents à leurs opérations courantes et non courantes. Malgré d'excellents résultats au regard des indicateurs traditionnels, une exposition importante peut persister lors des activités de maintenance, d'installation d'outils, de gestion des produits chimiques et des gaz, et dans les relations avec les sous-traitants, souvent sans blessure ni conséquence immédiate.

Cette session d'échange entre pairs se concentre sur les sources de risques opérationnels majeurs dans les usines de fabrication de semi-conducteurs et sur les raisons pour lesquelles les événements anormaux et les incidents évités de justesse constituent souvent des signaux d'apprentissage sous-exploités. À travers des scénarios concis et pertinents pour les usines de fabrication de semi-conducteurs, la discussion examinera comment la dérive opérationnelle, les hypothèses concernant les contrôles et les états de travail transitoires peuvent altérer la visibilité des risques au fil du temps.

La session présentera également un aperçu de la manière dont les nouvelles approches basées sur l'IA peuvent soutenir les pratiques de gestion des risques existantes. Les analyses de risques de phase (ARP) assistées par l'IA (diagramme nœud papillon) et les outils de conseil en risques pilotés par l'IA seront abordés comme des outils d'aide à la décision permettant de structurer l'identification des dangers, d'améliorer la cohérence et de déceler plus tôt les éventuelles lacunes en matière de contrôle, sans pour autant remplacer le jugement des ingénieurs ni les processus de sécurité établis.

Conçue comme une conversation d'apprentissage collaboratif, cette session invite les membres de SESHA à réfléchir à des moyens pratiques de renforcer la sécurité opérationnelle et de réduire l'exposition aux événements à conséquences graves dans les environnements de fabrication avancés.